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經(jīng)銷商苦不堪言!越來越多陶企正視瓷磚R角、水波紋問題

2025-03-04 來源:中國(guó)陶瓷網(wǎng) 責(zé)任編輯:劉思桃 閱讀:1940
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近兩年,瓷磚質(zhì)量問題頻出,消費(fèi)投訴激增。整體來看,消費(fèi)者的投訴主要聚焦于瓷磚表面不平整,涵蓋了R角、水波紋、輥棒印、橘皮等問題。隨著投訴糾紛不斷增加,瓷磚質(zhì)量差、柔光磚有R角和輥棒印、拋釉磚都是水波紋等給人的印象不斷被加深,瓷磚在終端市場(chǎng)上的銷售和服務(wù)難度變大,令許多瓷磚品牌和經(jīng)銷商苦不堪言。

R角、水波紋等消費(fèi)投訴問題歸根結(jié)底是陶企的工藝技術(shù)仍不完善,依舊存在技術(shù)缺陷。2025年,聚焦消費(fèi)者裝修痛點(diǎn)、改進(jìn)瓷磚生產(chǎn)技術(shù)和提升工藝水平成為大部分陶企主要的產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)策略。

 

01

2月27日,由北部灣產(chǎn)權(quán)交易所集團(tuán)股份有限公司、廣西華南技術(shù)交易所有限公司組織召開的宏宇集團(tuán)“一種純平耐磨玉質(zhì)陶瓷磚的研發(fā)及其產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目成果評(píng)價(jià)會(huì)在廣西南寧順利舉行。

此次評(píng)價(jià)會(huì)評(píng)定的項(xiàng)目是由宏宇集團(tuán)主導(dǎo)開發(fā)的“一種純平耐磨玉質(zhì)陶瓷磚的研發(fā)及其產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目。專家組在聽取了項(xiàng)目匯報(bào)、現(xiàn)場(chǎng)考察了產(chǎn)品后,經(jīng)質(zhì)詢與討論后認(rèn)為:該項(xiàng)目采用厚釉深拋的工藝制備純平陶瓷磚,改變傳統(tǒng)施釉工藝,經(jīng)多層次釉料組合,最后再淋施透明耐磨釉,增加釉層厚度,并通過調(diào)整透明耐磨拋釉的配方組成、選擇生料釉的制備工藝、優(yōu)化燒成工藝等技術(shù)手段,解決了厚釉深拋工藝存在的釉面耐污性、耐磨性下降的問題,成功研發(fā)出純平、耐磨、玉質(zhì)感強(qiáng)的陶瓷磚產(chǎn)品。

專家組最終一致認(rèn)定宏宇集團(tuán)“一種純平耐磨玉質(zhì)陶瓷磚的研發(fā)及其產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目成果達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平。這也是宏宇集團(tuán)第14項(xiàng)國(guó)際領(lǐng)先水平的創(chuàng)新項(xiàng)目。

純平、耐磨、無水波紋、玉質(zhì)感,這是該項(xiàng)目的技術(shù)創(chuàng)新亮點(diǎn),同時(shí)也是宏宇集團(tuán)利用企業(yè)硬核技術(shù)瞄準(zhǔn)當(dāng)下瓷磚裝飾市場(chǎng)痛點(diǎn)的表現(xiàn)。

據(jù)了解,威爾斯陶瓷2025年全新推出的玉質(zhì)石瓷磚正是應(yīng)用了該項(xiàng)目技術(shù),具備純平面、超耐用、玉質(zhì)感三大核心賣點(diǎn),該產(chǎn)品釉料、坯體比普通瓷磚更好,經(jīng)過多重工藝精拋細(xì)磨,抗摔耐用,從根本上拒絕水波紋、R角和輥棒印,同時(shí)還保證磚面擁有“立體玉質(zhì)柔光”效果,紋理逼真更顯高檔。

基于行業(yè)領(lǐng)先的創(chuàng)新技術(shù),威爾斯還提出了“怕地磚不平,用威爾斯玉質(zhì)石”的產(chǎn)品口號(hào),展現(xiàn)出強(qiáng)大的品牌自信。

 

02

有觀點(diǎn)認(rèn)為,未來瓷磚R角明顯與否會(huì)成為衡量高端產(chǎn)品的重要因素之一。從去年下半年開始,越來越多陶企聚焦瓷磚表面平整度問題,提升技術(shù)、改進(jìn)工藝,例如升級(jí)推出超平釉、純平釉工藝,希望在生產(chǎn)上進(jìn)一步避免瓷磚R角、水波紋等現(xiàn)象。

如何實(shí)現(xiàn)瓷磚表面平整度技術(shù)升級(jí)?這就需要了解瓷磚R角、水波紋等這些導(dǎo)致瓷磚不平整的背后真相了。

先說水波紋。水波紋的特點(diǎn)是磚面呈現(xiàn)波浪紋,這是伴隨著全拋釉產(chǎn)品的出現(xiàn)而產(chǎn)生的。注意了,水波紋≠R角,R角的特點(diǎn)是瓷磚的邊緣向下塌邊。

早期的瓷磚產(chǎn)品主要有拋光磚、全拋釉和微晶石,這三類產(chǎn)品在生產(chǎn)時(shí)都需要拋光。拋光磚采用分層無釉布料工藝,微晶石表面有一定厚度的晶體熔塊,都可以進(jìn)行硬拋,同時(shí)可以做到表面鏡面效果,不產(chǎn)生水波紋。

而全拋釉則不同,它在生產(chǎn)時(shí)表面需要淋上0.5~0.8mm厚度的透明釉,由于釉層太薄,如果采用硬拋工藝容易拋穿釉面,因此全拋釉普遍采用軟模具進(jìn)行拋光,拋光的力度和轉(zhuǎn)速相對(duì)較低,并不能做到完全的鏡面效果。瓷磚表面的水波紋就是這樣產(chǎn)生的,并且無法避免,屬于行業(yè)普遍現(xiàn)象。

為了攻克水波紋問題,2016年就有陶企推出了超平釉工藝,原理就是在全拋釉的基礎(chǔ)上將保護(hù)釉加厚1~2mm,然后采用硬拋工藝,減弱水波紋。不過,這種工藝也只能減弱,而不能完全杜絕。

這是因?yàn)閽伖獯u的布料和微晶石的晶體熔塊是完全沒有流動(dòng)性,而拋釉磚的釉料具有流動(dòng)性,再加上釉料的厚度、拋光的力度和轉(zhuǎn)速也不能達(dá)到拋光磚和微晶石的標(biāo)準(zhǔn),所以超平釉比起原本的全拋釉水波紋會(huì)更少,但也不能做到完全沒有。

值得一提的是,現(xiàn)在不止拋釉磚,就連柔光磚、啞光磚都出現(xiàn)了磚面波浪紋的問題,這種現(xiàn)象被稱為輥棒印。

輥棒印的產(chǎn)生是因?yàn)楝F(xiàn)在很多工廠拉大生產(chǎn)線的產(chǎn)能,窯爐窯速過快產(chǎn)生震動(dòng),而瓷磚在高溫下又很柔軟,兩種因素影響下,瓷磚就很容易產(chǎn)生輥棒印。因此,即使不拋光的柔光磚和啞光磚也會(huì)出現(xiàn)波浪紋,再經(jīng)過拋光波浪紋會(huì)更加嚴(yán)重。

R角的特點(diǎn)是瓷磚的邊緣向下塌邊,其產(chǎn)生的主要原因是坯體余量預(yù)留不夠。

正常來說,瓷磚在燒成時(shí)坯體會(huì)有一定收縮,同時(shí)后期瓷磚磨邊環(huán)節(jié)也會(huì)磨掉一部分坯體,為此,壓機(jī)壓制時(shí)會(huì)將坯體的尺寸比實(shí)際成品做大90~100mm,最終瓷磚在窯爐燒成后的尺寸則會(huì)比實(shí)際成品大12~15mm,多出來的余量就是所謂的R角塌邊的部分,這部分坯體會(huì)在后期的磨邊環(huán)節(jié)被打磨掉。

因此,如果廠家要控制坯體原料以及磨邊等成本,就會(huì)導(dǎo)致燒成后的瓷磚尺寸四條邊的余量不夠,這樣一來產(chǎn)生R角的機(jī)率就很大。

除此以外,如果使用多層釉料、復(fù)合釉料等釉層過厚的瓷磚工藝,并采用加快窯爐速度的方法燒成,這些釉料在窯爐高溫下會(huì)產(chǎn)生極限拉扯,最終導(dǎo)致坯體的變形面積過大,即使是通過磨邊之后也仍然可能產(chǎn)生R角。

 

03

一言蔽之,瓷磚R角、水波紋以及輥棒印成因復(fù)雜,在現(xiàn)有的陶瓷生產(chǎn)工藝體系里無法完全杜絕,只能通過某些工藝以及企業(yè)嚴(yán)格的質(zhì)量管理體系和質(zhì)檢系統(tǒng)去減弱、減少。相應(yīng)的,要想做到缺陷效果極少而同時(shí)優(yōu)品率較高,需要一定的生產(chǎn)成本支撐,那么產(chǎn)品的單價(jià)不會(huì)低,陶企推入市場(chǎng)時(shí)大部分都會(huì)定位為高端產(chǎn)品。

值得注意的是,盡管水波紋、輥棒印和R角這些瓷磚表面缺陷非常影響家裝美感,但只要符合國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),都不屬于質(zhì)量問題。

據(jù)了解,《陶瓷磚國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4100-2015》對(duì)瓷磚表面平整度(邊彎曲度)有明確規(guī)定,瓷質(zhì)磚(附錄G)的產(chǎn)品平整度誤差不得超過±0.5%(拋光磚±0.15%),最大值≤±2.0㎜。即瓷磚平整度需滿足:上翹不超過0.5mm,下彎不超過0.75mm。通常來說,即使是看起來極為明顯的R角、水波紋現(xiàn)象最終檢測(cè)都符合國(guó)標(biāo)要求。

隨著R角、水波紋等瓷磚不平整問題被網(wǎng)絡(luò)“推廣”開來,相關(guān)的消費(fèi)投訴糾紛也層出不窮。雖然這些問題嚴(yán)格來說都不屬于質(zhì)量問題,但在不少糾紛調(diào)解過程中,商家經(jīng)常會(huì)為此而被判定賠償消費(fèi)者損失。

因此,無論是為了提高消費(fèi)者的產(chǎn)品體驗(yàn),還是減少經(jīng)銷商的售后服務(wù)負(fù)擔(dān),陶企都應(yīng)該加強(qiáng)產(chǎn)品品質(zhì)管控,加打改善技術(shù)缺陷的力度,減少帶有R角、水波紋等“問題”的產(chǎn)品流入市場(chǎng)。

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